如何解決半導(dǎo)體圓晶生產(chǎn)過(guò)程中清潔效果不一致出現(xiàn)的問(wèn)題

如何解決半導(dǎo)體圓晶生產(chǎn)過(guò)程中清潔效果不一致出現(xiàn)的問(wèn)題

半導(dǎo)體間歇式清洗設(shè)備清洗液成分配比不穩(wěn)定，清洗效果不一致。

我在半導(dǎo)體晶圓制造現(xiàn)場(chǎng)，但我在清潔過(guò)程中遇到了一些問(wèn)題。

在批量清洗中，有些成分會(huì)蒸發(fā)，尤其是在液體達(dá)到高溫的情況下。

但由于是液體，易蒸發(fā)，易起泡，普通的計(jì)量泵會(huì)造成氣鎖。

它還要求定量、清潔和耐腐蝕。

我們推薦具有高分配性能并且每次注射能夠注入少量 1 mL 的 CFD 型泵。

在這種情況下，我們推薦每次注射可注入少量 1 mL 的“CFD 型泵"。

CFD 型泵具有氣泡容易排出的結(jié)構(gòu)，因此氣泡不會(huì)留在泵內(nèi)。

此外，接液部采用氟樹(shù)脂制成，是一款清潔度高、耐腐蝕的泵。此外，CFD-1T-B 型號(hào)具有 1 mL/shot 的出色分辨率，適合保持化學(xué)溶液的成分比恒定?；谝陨显?，我們認(rèn)為“CFD型泵"可以解決半導(dǎo)體間歇式清洗設(shè)備的清洗液?jiǎn)栴}。請(qǐng)考慮這個(gè)機(jī)會(huì)。